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    技術(shù)文章

    真空井式坩堝爐詳細(xì)參數(shù)及原理

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    本設(shè)備是由石英坩堝(或氧化鋁陶瓷坩堝)和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。

    真空井式坩堝爐參數(shù)說明

    型號

    AFD-1200T

    AFD-1400T

    AFD-1700T

    工作溫度

    >1200℃

    >1400℃

    >1700℃

    加熱元件

    電阻絲

    硅碳棒

    硅鉬棒

    熱電偶

    K型

    S型

    B型

    控溫方式

    31段可編程自動控制,PID調(diào)節(jié)控溫度

    升溫速率

    0-10℃

    0-20℃

    控溫度

    ±1℃

    大真空度

    -0.1MPa

    爐膛材料

    氧化鋁陶瓷纖維板

    爐殼

    雙層爐殼,風(fēng)冷結(jié)構(gòu)(爐底安裝兩個散熱風(fēng)扇),爐殼表面溫度低于60度

    額定功率

    1KW—8KW

    常用爐膛尺寸

    Φ240xH220mm;Φ40xH300mm;Φ60xH300mm;

     Φ80xH300mm;Φ100xH300mm;Φ120xH300mm

    聯(lián)


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